DF系列扩散器专用纳米级过滤器_低压款气体过滤器

恒歌纳米级DF系列扩散器专用过滤器、专为半导体制程中真空腔体快速放气应用进行设计。结合了扩散器的气体流动特性和高效过滤器的颗粒拦截特性、扩散器专用过滤器过滤精度可达0.003um。独特的全316L不锈钢结构、不仅确保高效过滤、更巧妙的规避了湍流产生、对工艺室环境造成影响、有效防止气流吹起颗?；蛘叽灯鸸杵??？啥ㄖ苹杓?、灵活适应各类安装空间。

产品特点

● ?不锈钢粉末烧结介质、可快速排气

● ?整体316L不锈钢结构

● ?减少工艺腔体排气时的湍流

● ?适用于多种工艺气体

● ?洁净室环境内制造、测试、包装

● ?100%完整性测试通过

● ?100%氨气泄露检测通过、耐高温、耐高压、耐腐蚀

● ?防止微?；烊?、帮助提高产品合格率可根据安装空间进行设计

应用领域

DF系列扩散器专用过滤器广泛应用于半导体制造中的各种工艺环节，如光刻、蚀刻、离子注入等。它能够有效去除气体中的杂质，确保气体的高纯度，从而提高芯片的良品率和生产效率。此外，它还适用于其他需要高纯度气体的工业领域，如电子制造、化工等。

在半导体制程中，DF 系列扩散器应用气体过滤器主要有以下原因：

● ?防止颗粒污染：半导体制造对环境洁净度要求极高，哪怕微小颗粒也可能导致芯片短路、断路或其他性能缺陷。气体过滤器能拦截 0.003um 及以上的颗粒，确保进入真空腔体的气体纯净，防止颗粒在工艺过程中附着在硅片或其他关键部件上，提高产品合格率。

● ?避免气体杂质影响工艺：半导体制程中的光刻、蚀刻等工艺对气体纯度要求严格。过滤器可去除气体中的杂质，如水分、油分、金属离子等，避免这些杂质与工艺气体发生化学反应，或在高温、高压等条件下对硅片表面造成腐蚀、污染，保证工艺的一致性和稳定性。

● ??；ど璞福航嗑坏钠蹇杉跎俣岳┥⑵骷捌渌喙厣璞改诓孔榧哪ニ鸷透?，延长设备使用寿命，降低维护成本。如果气体中的颗?；蛟又式肷璞改诓?，可能会堵塞气体通道、磨损密封件，影响设备的正常运行。

● ?满足工艺精度要求：随着半导体器件尺寸不断缩小，工艺精度要求越来越高。使用气体过滤器能提供稳定、纯净的气体环境，满足高精度工艺要求，确保半导体产品的性能和质量达到标准。

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